活動報告・予告/Annual Reports/上野研究室2020 の履歴(No.8)

研究室教員†

教授　上野　啓司（研究室Webページ）
Researcher ID: B-2741-2012
ORCID: orcid.org/0000-0002-5535-9382

研究課題†

遷移金属ダイカルコゲナイド等のカルコゲナイド系層状物質単結晶形成，単層剥離と素子応用
他のさまざまな層状物質の単結晶形成，単層剥離と素子応用
化学気相成長法（CVD），原子層堆積法（ALD）によるカルコゲナイド系層状物質単結晶薄膜の成長
層状物質のラマン分光測定，表面電子分光測定

発表論文†

"Synthesis of AlOx thin films by atmospheric pressure mist chemical vapor deposition for surface passivation and electrical insulator layers"
- A. Rajib, K. M. Enamul, S. Kurosu, T. Ukai, M. Tokuda, Y. Fujii, T. Hanajiri, R. Ishikawa, K. Ueno, and H. Shirai
- J. Vac. Sci. Technol. A 38 (2020) 033413
- DOI:10.1116/1.5143273
"Flat bands in twisted bilayer transition metal dichalcogenides"
- Z. Zhang, Y. Wang, K. Watanabe, T. Taniguchi, K. Ueno, E. Tutuc and B.J. LeRoy
- Nature Physics, in press (2020)
- DOI:10.1038/s41567-020-0958-x
- View-only access is here
"Effect of thermally annealed atomic-layer-deposited AlOx/chemical tunnel oxide stack layer at the PEDOT:PSS/n-type Si interface to improve its junction quality"
- Md E. Karim, Y. Nasuno, A. Kuddus, T. Ukai, S. Kurosu, M. Tokuda, Y. Fujii, T. Hanajiri, R. Ishikawa, K. Ueno, and H. Shirai
- J. Appl. Phys. 128 (2020) 045305
- DOI:10.1063/5.0007918

総説，解説等†

著書†

学会（予定も含む）†

研究会，セミナー講演（予定も含む）†

外部資金獲得状況†

2018〜2020年度　科学研究費補助金　基盤研究（Ｂ）一般　代表：上野啓司　「高蒸気圧原料による低温ファンデルワールス・エピタキシー」

学会等の活動†

第33回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議（33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2020)）論文委員
日本表面真空学会　真空技術調査部会　研究例会企画専門部会　2020年度委員
日本学術振興会　第147委員会委員